MEMS器件
MEMS器件
- PVD在MEMS器件的制造和封裝中扮演著關鍵角色，不僅提高了器件的性能和穩定性，還推動了MEMS技術的進一步發展。MEMS器件的微觀結構對外部環境因素（溫度、濕度和氣體等）非常敏感，其封裝結構要能有效保護這些結構免受外部環境的影響，Arisimit®涂層可以在MEMS器件表面沉積一層或多層表面改性材料，以形成有效的保護層，同時降低器件氣阻，提高其靈敏度和性能穩定性。
- 其次，Arisimit®涂層用于制造MEMS器件中的傳感器和執行器等關鍵組件，在制造壓力傳感器時，可以利用PVD沉積壓力敏感膜層，膜層在受到壓力時發生形變，從而改變其電性能，實現壓力測量。
- 此外，Arisimit®涂層還可用于制造其他具有特殊功能的表面改性材料，如耐磨、耐腐蝕、導電、絕緣等，以滿足MEMS器件在各種應用場景下的需求。
